光學薄膜技術

鍍膜波長范圍：
193nm~11μm

先進的鍍膜設施：

公司擁有30+種類齊全、性能先進的全套物理氣相沉積鍍膜設施（從日本、美國和德國進口）。包括離子輔助電子槍（EB-IAD），離子濺射（IBS），磁控濺射（MS）等鍍膜機器。

領先的鍍膜開發(fā)能力：

公司擁有技術水平卓越的鍍膜設計與工藝團隊，

可提供全品類鍍膜產品及定制化工藝解決方案，具體涵蓋：

1. 光通訊領域濾光片（LWDM，CWDM， XGPONs等 )

2. 高功率激光鍍膜

3. 生物醫(yī)療領域濾光片

4. 多元化鍍膜工藝開發(fā)：可在光學玻璃、光學晶體、Si（硅）、Ge（鍺）等多種基片上，實現(xiàn) AR（增透膜）、HR（高反膜）、PR（部分反射膜）、PBS（偏振分光膜）、NPBS（非偏振分光膜）、ITO（導電膜）、金屬膜等各類功能膜系的量產工藝開發(fā)

5. 濾光膜專項支持：支持單波長、多波長濾光膜的定制開發(fā)，適配不同場景下的精準分光需求